暨南大学 - 竞价结果公告(CR105592026003428)

发布时间: 2026年11月04日
摘要信息
中标单位
中标金额
中标单位联系人
招标单位
招标编号
招标估价
招标联系人
代理单位
代理单位联系人
关键信息
招标详情
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相关单位:
***********公司企业信息
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**** - 竞价结果公告(****)
发布时间:2026-11-04 12:05:14
申购单号: ****
申购主题: 光刻胶
采购单位: ****
竞价开始时间: 2026-10-27 12:13:23
竞价截至时间: 2026-11-02 12:27:01
币种: 人民币
付款方式: 货到验收合格后付款
备注说明:
质疑说明: 如果对成交结果有异议,请在发布成交结果之日起三个工作日内向采购单位提出质疑
成交总额: 30159.00
送货时间: 发布竞价结果后7天内送达
安装要求: 免费上门安装(含材料费)
收货地址:
采购项 品牌 单项预算 成交单价 质保及售后服务 技术参数 数量 型号 成交总价 成交供应商
光刻胶 Micro Resist Technology 10053.00 按行业标准提供服务,提供质保证明 ma-N 2401(标准膜厚 0.10 μm)旋涂条件 3000 rpm/30 s。适用于电子束(20/50 keV)及 DUV(266 nm)曝光,水性碱性显影,具有高刻蚀抗性和高分辨率。 1.0250ml ma-N 2401 10053.00 ****
光刻胶 Micro Resist Technology 10053.00 按行业标准提供服务,提供质保证明 ma-N 2403(0.30 μm)旋涂条件 3000 rpm/30 s。适用于电子束(20/50 keV)及 DUV(266 nm)曝光,水性碱性显影,具有高刻蚀抗性和高分辨率。 1.0250ml ma-N 2403 10053.00 ****
光刻胶 Micro Resist Technology 10053.00 按行业标准提供服务,提供质保证明 ma-N 2405(0.50 μm)旋涂条件 3000 rpm/30 s。适用于电子束(20/50 keV)及 DUV(266 nm)曝光,水性碱性显影,具有高刻蚀抗性和高分辨率。 1.0250ml ma-N 2405 10053.00 ****
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